China tiene cada vez mejores equipos de litografía propios. Aun así están muy lejos de las máquinas de ASML

El esfuerzo que están haciendo los fabricantes de equipos de litografía chinos para desarrollar sus propias máquinas de vanguardia es titánico. Y, como cabe esperar, el Gobierno de Xi Jinping está respaldando a estas empresas con subvenciones multimillonarias. De hecho, a principios de septiembre de 2023 aprobó una partida de nada menos que 41.000 millones de dólares destinada, precisamente, a las compañías que producen los equipos involucrados en la fabricación de los circuitos integrados.

Los logros ya están llegando, y son notables. SMIC y Huawei han apostado, al menos por ahora, por refinar sus procesos litográficos y optimizar las máquinas de litografía UVP (ultravioleta profundo) fabricadas por ASML que ya tienen en su poder. Otras compañías, sin embargo, han optado por desarrollar sus tecnologías de integración apoyándose en los nuevos equipos que Naura Technology, AMEC (Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China) o Piotech Inc. han puesto a punto. Este es el camino que está siguiendo Yangtze Memory Technologies Co. (YMTC), el mayor fabricante de chips de memoria de China.

El Ministerio de Industria y Tecnología de la Información de China nos pone al día

En la coyuntura actual no hace falta que elaboremos conjeturas. Desde China recibimos un día sí y otro también información detallada acerca de los avances técnicos que realizan sus principales fabricantes de equipos de litografía. La información en la que estamos a punto de indagar procede del Ministerio de Industria y Tecnología de la Información (MITI) y tiene un carácter estrictamente oficial. De hecho, esta institución es la responsable de supervisar la industria de los semiconductores china. Lo interesante es que a principios de septiembre publicó una lista que recoge los nuevos equipos de litografía desarrollados en China.

El propósito del MITI es dar a conocer a los fabricantes de circuitos integrados chinos las nuevas máquinas desarrolladas por sus compatriotas para que puedan utilizarlas en sus plantas. Tiene sentido. Y, además, a nosotros esta información nos viene de maravilla para tomar el pulso al nivel de desarrollo que están alcanzando los equipos de litografía de China. La lista del MITI recoge una gran cantidad de equipos, pero entre todos ellos destacan dos máquinas de fabricación de chips por su presumible sofisticación.

Una de ellas utiliza una fuente de luz de criptón y flúor que tiene una longitud de onda de 248 nm y una precisión de alineación por debajo de los 25 nm. Además, alcanza una resolución de 110 nm en obleas de 12 pulgadas. La otra máquina emplea una fuente de luz de flúor y argón más sofisticada y con una longitud de onda de 193 nm. Su precisión de alineación está por debajo de los 8 nm, lo que permite alcanzar una resolución de 65 nm en obleas de 12 pulgadas. El MITI no ha indicado qué fabricante de equipos de litografía ha desarrollado estas máquinas, por lo que podría tratarse de SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Group), Naura Technology o AMEC.

Los expertos de ASML a los que ha consultado SCMP defienden que con estas máquinas probablemente no es posible producir circuitos integrados de 8 nm o menos, por lo que sus prestaciones son claramente inferiores a las de los equipos de ultravioleta extremo (UVE) que fabrica la compañía neerlandesa. Esta declaración de un ingeniero de ASML es muy clarificadora: "Las herramientas de litografía son como cuchillos. El sabor de la comida depende en gran medida de los chefs. Esto significa que con un mismo equipo TSMC puede ser capaz de fabricar chips de 7 nm, mientras que SMIC solo puede producir circuitos integrados de 16 nm". Nada que añadir.

Imagen | ASML

Más información | SCMP

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