Dentro del proceso de fabricación de los chips con silicio, una de los pasos a dar es el hacer crecer una capa de óxido sobre el material semiconductor, para lo que normalmente se emplea la técnica de calentamiento hasta unos 1.000 grados para acelerar el proceso natural de formación de esa capa de óxido. Este proceso resulta caro.
Ahora, desarrolladores de UCL han logrado acelerar ese proceso de oxidación mediante lámparas UV, técnica que resulta más económica y que teóricamente debería abaratar los costes de fabricación de los mismos.
El caso es que este sistema de oxidación me suena.
Vía | Digg. Más información | Theregister.
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